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  • KSL-1700X-A21700℃箱式爐(8L)
    KSL-1700X-A21700℃箱式爐(8L)

    1700℃箱式爐(8L)KSL-1700X-A2采用側開式爐門,以硅鉬棒為加熱元件,智能溫度調節儀和B型雙鉑銠熱電偶配套使用,對爐內溫度進行測溫調節和自動控制,工作溫度可達1700℃。

    型號:KSL-1700X-A2
    更新日期:2020-10-21
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  • GSL-1100X-S1100℃多工位管式爐
    GSL-1100X-S1100℃多工位管式爐

    1100℃多工位管式爐本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

    型號:GSL-1100X-S
    更新日期:2020-10-21
    面議
  • GSL-1700X-S1700℃真空管式爐
    GSL-1700X-S1700℃真空管式爐

    1700℃真空管式爐GSL-1700X-S采用30段程控PID控溫儀,高溫度可達到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態下材料的燒結和退火。

    型號:GSL-1700X-S
    更新日期:2020-10-21
    面議
  • ALD-1200X-4雙通道ALD管式爐系統
    ALD-1200X-4雙通道ALD管式爐系統

    雙通道ALD管式爐系統是一款4英寸管式爐系統,包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統。該管式爐系統簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現ALD工藝實驗。

    型號:ALD-1200X-4
    更新日期:2021-03-09
    面議
  • OTF-1200X-S-HPCVD坩堝(樣品臺)可移動型1200°C管
    OTF-1200X-S-HPCVD坩堝(樣品臺)可移動型1200°C管

    OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備工作溫度為1200℃。設備特點∶坩堝通過一步進電機控制爐管,按照設定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),可實時監測樣品的溫度,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準確找到實驗所需要的溫度,使得實驗準確度更高,重復性更強。此款設備可用于多種實驗

    型號:OTF-1200X-S-HPCVD
    更新日期:2021-03-09
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  • OTF-1200X-50-II-P帶有預熱系統的滑動PECVD
    OTF-1200X-50-II-P帶有預熱系統的滑動PECVD

    OTF-1200X-50-I-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PE-CVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐,預熱爐(作用為使固體原料蒸發)和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

    型號:OTF-1200X-50-II-P
    更新日期:2021-03-09
    面議
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