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產品詳細頁
  • 雙通道ALD管式爐系統

雙通道ALD管式爐系統

簡要描述:雙通道ALD管式爐系統是一款4英寸管式爐系統,包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發生器以及用于CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統。該管式爐系統簡潔的設計使得更多的科研院所能夠在可負擔的低成本情況下實現ALD工藝實驗。

  • 產品型號:ALD-1200X-4
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2021-03-09
  • 訪  問  量:81

產品介紹

品牌深圳科晶產地類別國產
應用領域醫療衛生,化工,生物產業,電子
控制面板

蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數均可通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制兩個ALD進氣閥

情點擊下圖查看控制面板(點擊圖片查看詳細資料)

ALD進氣閥兩個ALD脈沖電磁閥(可控差在10ms完成閥門的開啟或關閉)
精密液體氣相發生器
精密液體氣相發生器包含在本系統中并且連接到ALD進氣閥
雙溫區管式爐連續工作的溫度為1100℃C
兩個溫區由兩個獨立的溫控系統來控制,而且都為PID30段程序化控溫每個加熱區長度為200mm,加熱區總長度為400mm如兩區域加熱至同一溫度時,恒溫區長度為250mm爐管兩端放置管堵時兩溫區的溫度差為500℃輸入電壓∶ 208-240V AC,單向功率為4KW
 
防腐型數顯真空計測量范圍∶ 3.8x10-5-1125 Torr耐腐蝕
對于氣體的壓力檢測具有較高的準確度和重復性可實現快速的氣體監測,響應時間較短易于更換插頭及傳感元件
真空泵(選配)

管內真空度可達10-2Torr

真空泵不包含在本系統內,如您進行CVD實驗可點擊下圖選購無油渦旋真空泵

混氣系統
可選購氣液混合裝置,用于CVD系統可選購恒溫控制模塊
更新觀念您可采用ALD設備搭建等離子增強原子層沉積+化學氣相沉積系統(PE-ALD+CVD)和等離子增強原子層沉積+物理氣相沉積+化學系統(PE-ALD+PVD+CVD),用于生長各類材料(PE-ALD+CVD) ( PE-ALD+PVD +CVD)
質保期一年保質期,終身維護(不包含爐管,加熱元件和密封圈)

質量認證


內置德國進口普發泵通過ELT認證 CE認證
所有電器元件(>24V)均滿足UL/MET/CSA認證
如您另付費用,我們可保證單臺儀器通過TUV(UL61010)或CSA認證
注意事項

爐管內氣壓不可高于0.02MPa

由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為001N 0.1MPa,使用時會更加準確安全

當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊點擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭

本公司有權隨時修改PE-CVD系統的設計不再另行通知,但我們保證修改之后的儀器質量可以達到和超過上述標準

 

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