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產品展示
  • OTF-1200X-4-RTP1000°C小型RTP爐
    OTF-1200X-4-RTP1000°C小型RTP爐

    1000°C小型RTP爐 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4“石英管和真空法蘭,它是專為半導體和太陽能電池基片(頂值為3“)的退火而設計,采用10KW紅外燈管加熱快速升溫的頂值速度為50°C/秒,30段溫度控制,精度為+/-1°C,計算機通過RS485口和控制軟件實時控制爐子和顯示溫度曲線。

    型號:OTF-1200X-4-RTP
    更新日期:2021-03-29
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  • OTF-1200X-50-S迷你型快速加熱冷卻爐
    OTF-1200X-50-S迷你型快速加熱冷卻爐

    迷你型快速加熱冷卻爐是一款CE認證的可滑動管式爐,配置外徑50x1000mm石英管,工作溫度達1200℃。爐底安裝一對滑軌,可滑動。加熱和冷卻速率可達100℃/m。為取得更快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后移動爐子到樣品位置。為獲得更快冷卻,可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到15℃/s,是低成本快速熱處理的理想

    型號:OTF-1200X-50-S
    更新日期:2021-03-24
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  • OTF-1200X-IR-IISL雙溫區紅外加熱快速熱處理爐
    OTF-1200X-IR-IISL雙溫區紅外加熱快速熱處理爐

    OT-1200X-IR-ISL是一款雙溫區紅外加熱快速熱處理爐,其爐管直徑為4英寸,樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管,允許樣品在真空或氣氛保護環境下移動。此款設備可使樣品升溫速率達到50℃/S,冷卻速率達到10℃/S此款設備不僅可對樣品進行快速熱處理,還可采用HPCVD方法來生長二維晶體(一個加熱區用來盛放固體蒸發原料,另一個加熱區用于沉積樣品)。

    型號:OTF-1200X-IR-IISL
    更新日期:2021-03-23
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  • OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐
    OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發鍍膜爐

    5英寸近距離蒸發鍍膜爐是一款快速熱處理爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其鍍膜面積可達到5“x5“。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),升溫速率為 20°C/s。

    型號:OTF-1200X-RTP-II-5
    更新日期:2021-03-23
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  • GSL-1600X-FS3KW1600°C水平式閃燒爐
    GSL-1600X-FS3KW1600°C水平式閃燒爐

    產品概述∶ GSL-1600X-FS3KW是—款水平式閃燒爐,爐體最高溫度可達1600℃℃,配備3KW可編程交流電源,正負極電極絲可通過電極法蘭引入到剛玉樣品夾具上對樣品施加電場,實現電場輔助閃燒工藝,相較于傳統陶瓷燒結工藝,具有超快速、節能且有利于制備細晶化陶瓷等優勢??蓮V泛應用于各類陶瓷材料的閃燒燒結工藝中,如∶ 固體氧化物燃料電池領域、鐵電熱電陶瓷領域、固態電解質等領域中。

    型號:GSL-1600X-FS3KW
    更新日期:2021-05-11
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  • OTF-1200X-80L1200°C單溫區滑軌爐
    OTF-1200X-80L1200°C單溫區滑軌爐

    產品概述∶單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL 是一款CE認證的可滑動管式爐,石英管外徑為80mm,最高工作溫度高達 1200℃。 爐子的底部安裝有一對滑軌,可使爐子從爐管的一側滑動到另一側,以實現快速加熱和快速冷卻。為了最快地加熱,可將加熱爐預熱至所需溫度,然后再滑動至樣品位置。 對于最快的冷卻,可以在樣品加熱完成后將爐子滑到另一側,實現快速冷卻,是低成本快速熱處理的理想設備。

    型號:OTF-1200X-80L
    更新日期:2021-05-11
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