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產品展示
  • OTF-1200X-S-HPCVD1200°C坩堝可移動型管式爐
    OTF-1200X-S-HPCVD1200°C坩堝可移動型管式爐

    產品概述∶?OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可在爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管外徑為50mm,設備最高工作溫度為1200℃C。通過觸摸屏數字控制器控制樣品臺或坩堝在爐管內的位置和溫度。此設備可進行快速熱處理,例如混合物理化學沉積(HPCVD),快速熱蒸發 (RTE),以及在各種氣氨下進行的水平布里奇號晶體生長(HDC),用于新一代晶體研究。

    型號:OTF-1200X-S-HPCVD
    更新日期:2021-05-11
    面議
  • OTF-1200X-S-DVD1200°C小型坩堝移動管式爐
    OTF-1200X-S-DVD1200°C小型坩堝移動管式爐

    產品概述∶ OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動管式爐(通過磁鐵推動坩堝移動),其爐管直徑為50mm.爐體最高工作溫度為1200℃,此款設備設計針對于直接蒸發沉積或各種氣氛下的快速熱處理實驗,用于二維材料的生長。

    型號:OTF-1200X-S-DVD
    更新日期:2021-05-11
    面議
  • GSL-1100X-RTP501100°C快速熱處理爐
    GSL-1100X-RTP501100°C快速熱處理爐

    GSL-1100X-RTP50是一款CE認證的可滑動快速熱處理爐,配置50mm OD×44mm ID×304.8mm L的高純石英管(單端封口),最高工作溫度可達1100℃。右側法蘭安裝有滑軌,可以輕松的將爐管移入或移出,從而實現快速加熱或冷卻。為取得最快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后將爐管插入到加熱區內進行加熱;

    型號:GSL-1100X-RTP50
    更新日期:2021-05-12
    面議
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