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產品展示
  • GSL-1100X-RTP501100°C快速熱處理爐
    GSL-1100X-RTP501100°C快速熱處理爐

    GSL-1100X-RTP50是一款CE認證的可滑動快速熱處理爐,配置50mm OD×44mm ID×304.8mm L的高純石英管(單端封口),最高工作溫度可達1100℃。右側法蘭安裝有滑軌,可以輕松的將爐管移入或移出,從而實現快速加熱或冷卻。為取得最快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后將爐管插入到加熱區內進行加熱;

    型號:GSL-1100X-RTP50
    更新日期:2021-05-12
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  • OTF-1200X-RTP-II-5R5英寸近距離旋轉蒸發鍍膜爐
    OTF-1200X-RTP-II-5R5英寸近距離旋轉蒸發鍍膜爐

    產品概述∶ OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距離旋轉蒸發鍍膜爐,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗,其轂樣臺尺寸5x5“,并且頂部載樣臺可旋轉,提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位于頂部和底部),最大升溫速率為10°C/s 。

    型號:OTF-1200X-RTP-II-5R
    更新日期:2021-05-12
    面議
  • GSL-1600X-FS3KW1600°C水平式閃燒爐
    GSL-1600X-FS3KW1600°C水平式閃燒爐

    產品概述∶ GSL-1600X-FS3KW是—款水平式閃燒爐,爐體最高溫度可達1600℃℃,配備3KW可編程交流電源,正負極電極絲可通過電極法蘭引入到剛玉樣品夾具上對樣品施加電場,實現電場輔助閃燒工藝,相較于傳統陶瓷燒結工藝,具有超快速、節能且有利于制備細晶化陶瓷等優勢??蓮V泛應用于各類陶瓷材料的閃燒燒結工藝中,如∶ 固體氧化物燃料電池領域、鐵電熱電陶瓷領域、固態電解質等領域中。

    型號:GSL-1600X-FS3KW
    更新日期:2021-05-11
    面議
  • OTF-1200X-S-DVD1200°C小型坩堝移動管式爐
    OTF-1200X-S-DVD1200°C小型坩堝移動管式爐

    產品概述∶ OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動管式爐(通過磁鐵推動坩堝移動),其爐管直徑為50mm.爐體最高工作溫度為1200℃,此款設備設計針對于直接蒸發沉積或各種氣氛下的快速熱處理實驗,用于二維材料的生長。

    型號:OTF-1200X-S-DVD
    更新日期:2021-05-11
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  • GSL-1100X-III-D11大面積雙管石墨烯生長爐
    GSL-1100X-III-D11大面積雙管石墨烯生長爐

    產品概述∶?GSL-1100X-IⅢI-D11是一款三溫區的大型雙管爐,其最高溫度可以達到1100℃。特殊的雙管設計,是為了通過CVD方法在箔材上大面積生長材料(面積∶~7000 cm^2,箔材纏繞在內管的外壁上)。一個送管裝置可以將內管輕易送入外管內部或從外管中取出。此款設備特別適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料。

    型號:GSL-1100X-III-D11
    更新日期:2021-05-11
    面議
  • OTF-1200X-S-HPCVD1200°C坩堝可移動型管式爐
    OTF-1200X-S-HPCVD1200°C坩堝可移動型管式爐

    產品概述∶?OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可在爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管外徑為50mm,設備最高工作溫度為1200℃C。通過觸摸屏數字控制器控制樣品臺或坩堝在爐管內的位置和溫度。此設備可進行快速熱處理,例如混合物理化學沉積(HPCVD),快速熱蒸發 (RTE),以及在各種氣氨下進行的水平布里奇號晶體生長(HDC),用于新一代晶體研究。

    型號:OTF-1200X-S-HPCVD
    更新日期:2021-05-11
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